Mikroskopie

Mikroskopie

Skenovací transmisní elektronový mikroskop JEOL JSM-7610F Plus s EDS mikroanalyzátorem , in-situ AFM s korelačním modem

Přístroj byl pořízen z projektu „Infrastrukturní podpora strategického studijního programu CNT VŠB-TUO“ (CZ.02.2.67/0.0/0.0/16_016/0002468)

Specifikace:

  • Schottkyho katoda s ultra vysokým rozlišením;
  • hodnota rozlišení na modelovém vzorku při 1 keV - 1,25 nm; při 15 keV - 0,6 nm;
  • detektory sekundárních (SE) a zpětně odražených (BSE) elektronů;
  • detektor na průchod elektronů; při urychlovacím napětí 30 keV je rozlišení 0,5 nm;
  • EDS mikroanalyzátor Aztec Live (Oxford Instruments) pro mapování chemického složení;
  • mikroskopie atomárních sil (AFM) s možností in-situ korelace s obrazem ze SEM;
  • příprava cross-section řezů, tenkých fólií a odprašování povrchu vzorku na Gatan PIPS II 695

Měření:

  • morfologická analýza povrchu vzorku;
  • nízká urychlovací napětí pro pozorování citlivých vzorků bez úpravy;
  • AFM topografie povrchu vzorku;
  • chemická analýza pozorovaného materiálu;
  • korelační analýza obrazů vzorku AFM a SEM.

 

 

Mikroskop atomárních sil Solver-Next, NT-MDT

Specifikace:

  • měření v kontaktním, semi-kontaktním a nekontaktním módu;
  • kontaktní mód (topografie, režim frikčních sil, režim modulové síly, silovou spektroskopii);
  • nekontaktní mód (topografie v poklepovém režimu, měření fázových obrazů, mikroskopii elektrostatických sil, měření magnetických sil, mikroskopii Kelvinovou sondou, skenovací kapacitní mikroskopii);

Měření:

  • litografie (silová, napěťová);
  • skenovací tunelovací mikroskopie (topografie, spektroskopie);
  • rozsah v osách x,y: 100 x 100 mikrometrů, v ose z10 mikrometrů;
  • šum v ose z - 0,04 nm, v osách x, y - 0,2 nm se zapnutými kapacitními senzory (tj. s aktivní linearizací), 0,02 nm v případě vypnutých kapacitních senzorů;
  • lze analyzovat pevné i práškové vzorky.

 

Světelný digitální mikroskop 3D mikroskop VHX-2000 (Keyence Corporation, Japan)

Specifikace:   

  • 2 objektivy umožňující 3D pozorování (zvětšení 20 – 200 x, 100 – 1000x);
  • HDR technologie;
  • Rotace a náklon objektivů;
  • 23" HD LCD monitor;

Měření:

  • Možnost měření mimo mikroskopický stolek (pro těžší a větší vzorky);
  • Možnost měření stejného místa během náklonu a rotace objektivu;
  • Možnost vytvoření 3D profilu povrchu vzorku;
  • Možnost měření vzdáleností, hloubky, velikosti zrn, aj;
  • Vhodné pro tenké vrstvy, pevné vzorky, leptané spoje, omezeně na práškové vzorky (dle typu materiálu) aj.